Центр коллективного пользования
«Физика и технология микро- и наноструктур»

Наш телефон:
+7 (831) 417 94 55
Почтовая ссылкаckp@ipmras.ru
Главная   |   Карта сайта   |   Обратная связь   |   English version
Установка для термического напыления металлов, диэлектриков и органических полупроводников на базе ВУП-5

Установка для термического напыления металлов, диэлектриков и органических полупроводников на базе ВУП-5

Контактное лицо

Травкин Владислав Владимирович

Почтовая ссылкаtrav@ipmras.ru

фото оборудования

Описание установки

Оборудование предназначено для термического напыления тонкопленочных покрытий на основе металлов, диэлектриков, органических соединений.

Технические характеристики

Предельное остаточное давление в вакуумной камере

не более 8•10-7 Торр

Диапазон температур подложки

-30оС … +350 оС

Скорость осаждения материала

0.1…10 нм/с

Контроль скорости/толщины in situ с помощью QCM

Ёмкость подложкодержателя

до 6 подложек размером 12×25×2 мм

Количество независимых испарителей

до 3 шт

Режим испарения

последовательное/параллельное из двух испарителей

Диапазон температур испарителей

100…1500 оС

Типы испарителей

тигли, лодочки, спирали

Материалы испарителей

кварц, тантал, вольфрам

Оборудование ЦКП