Электронный микроскоп Supra 50VP

Многоцелевой высокопроизводительный автоэмиссионный растровый электронный микроскоп (изготовитель ZEISS, Германия).

Контактное лицо

Гусев Сергей Александрович

gusev@ipmras.ru

Фото

Технические характеристики

Проводимые измерения

Электронный микроскоп SUPRA 50VP позволяет выполнять многоплановые исследования по созданию и диагностике наноструктур с применением методов сканирующей электронной микроскопии и электронной литографии. Микроскоп оснащен комплектом аналитических модулей (детекторов и программное обеспечение), с помощью которых можно получать разнообразную качественную и количественную информацию об исследуемых объектах:

• получение изображений объектов без предварительной подготовки (в том числе и непроводящих — возможность использования режимов низкого вакуума (VP) и их комбинаций с работой на низких ускоряющих) во вторичных и отраженных электронах с пространственным разрешением до 1,5 нм;
• морфометрический анализ субмикронных и нанометровых неоднородностей и частиц;
• микроанализ элементного состава объектов, включая измерение толщины и состава тонких пленок, с использованием энергодисперсионного рентгеновского спектрометра; сверхстабильный ток пучка — 0,2% в час / до 20 нА, обеспечивает высочайшее качество результатов рентгеновского и дифракционного анализов;
  анализ спиновой поляризации вторичных электронов и получение изображений поверхности материалов с магнитным контрастом;
• диагностика полупроводниковых структур с применением методов катодолюминесцентных измерений и т. п.

На микроскопе кроме аналитического оборудования установлен модуль и программное обеспечение для систем электронной литографии ELPHY PLUS (изготовитель Raith GmbH, Германия). Данное оборудование обеспечивает полное управление электронным зондом микроскопа с высокой временной стабильностью и высокой скоростью формирования рисунка. Минимальное время экспозиции и перемещения электронного пучка составляет 2 нс. С помощью этой системы возможно формирование в электронном резисте рисунков (масок или финишных структур) любой сложности на подложках размерами до 5×5 см. Минимальный размер элемента формируемого рисунка может иметь величину порядка 10 нм (определяется используемым электронным резистом).