Постростовая обработка структур

Установка плазмохимического травления и осаждения с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaLab 80

Система очистки образцов с помощью кислородной плазмы

Стенд ионно-плазменного комплекса для обработки структур

Стенды ионно-пучкового травления

Установка для быстрой температурной обработки микроструктур AcuThermo AW 410 System

Установка прецизионной микрообработки полупроводниковых материалов SharpMark YV04 UF 10