Стенды ионно-пучкового травления

Стенды ионно-пучкового травления

Контактное лицо

Полковников Владимир Николаевич, к.ф-м.н., зав. лаб.

polkovnikov@ipmras.ru

+7 (831) 417−94−58

Описание установки

Стенды ионно-пучковой обработки представляют собой многофункциональные комплексы для высокоточной финишной обработки оптических поверхностей дифракционного качества, сочетающие в себе ионные источники различных размеров и конфигураций. Ключевая особенность – возможность сочетания трёх различных функций в одной системе: крупномасштабной ионной полировки, проведение ионной асферизации и коррекции локальных ошибок формы оптической поверхности.

Технические характеристики

 
Характеристики стенда
Реализуемое движение Диапазон изменений Точность
Наклон образца, (θ) ±35° 0.01°
Вращение вокруг оси образца, (ω) 0°-360° 0.01°
Линейное перемещение вдоль оси образца, (X) 0-50 мм 0.02 мм
Линейное перемещение поперек оси образца, (ρ) 0-160 мм 0.02 мм
Поворот вокруг вертикальной оси, (ψ) 0°-120° 0.01°

 
Характеристики ионных источников
Характеристика КЛАН-163М КЛАН-53М КЛАН-12М
Тип источника Сеточный, радиочастотный f=2.0 МГц Сеточный, с холодным полым катодом Сеточный, с холодным полым катодом
Ионно-оптическая система двухсеточная плоская двухсеточная, вогнутая двухсеточная, вогнутая
Рабочий газ инертные, O2, N2, C2H8 и др. инертные, N2 инертные, N2
Рабочее давление, Па 3∙10-2 3∙10-2 3∙10-3
Энергия ионов, эВ 200-1500 300-1500 300-1500

 

Возврат к списку