Ионно-пучковое травление, полировка и коррекция формы поверхности малогабаритными и квазипараллельными ионными пучками с использованием стенда ионно-пучкового травления

В рамках оказываемой услуги производится ионно-пучковое травление образца заказчика. Возможно проведение ионной полировки (снижение микрошероховатости поверхности в диапазоне пространственных частот q = [2.5‧10⁻² – 6.3‧10¹ мкм⁻¹]) и  ионной коррекции  локальных ошибок формы поверхности малоразмерным ионным пучком (в диапазоне пространственных частот q = [2.8‧10⁻⁶ – 9.5‧10^-4 мкм⁻¹]). 

С использованием стенда ионно-пучкового травления выполняется финишная обработка оптических поверхностей с помощью ионных пучков для достижения ангстремной микрошероховатости, придания им сложной асферической формы и достижения субнанометровой точности. Данная услуга применяется для создания высокоэффективной оптики, работающей в экстремально коротковолновых диапазонах – вакуумный ультрафиолет (ВУФ), экстремальный ультрафиолет (ЭУФ) и рентгеновское излучение. 

А также с использованием стенда может быть выполнено ионное травление для задач ионной литографии через резистивную маску, ионное утонение образцов, придание рельефа, наноструктурирование (обсуждается индивидуально). 

Ключевые особенности и уникальные возможности: 

Разработанные в ИФМ РАН стенды ионно-пучкового травления позволяют достичь точности формы поверхности, недостижимой для традиционных методов механической обработки. А также создавать сложные асферические, в том числе, неосесимметричные оптические элементы. Разработанные технологии обеспечивает предсказуемое и управляемое распыление материала без механического контакта и образования внутренних напряжений. 

Результат оказания услуги: 

Вы получаете готовые оптические компоненты, которые соответствуют жестким требованиям для работы в коротковолновом диапазоне (ЖР, МР, ЭУФ, ВУФ), обеспечивая дифракционное качество и максимальное разрешение для ваших (рентгено)оптических систем. Данные технологии частично применимы и для других диапазонов электромагнитного излучения: СВЧ, ИК, видимого, УФ (обсуждается индивидуально).