Установка для быстрой температурной обработки микроструктур AcuThermo AW 410 System
Контактное лицо
Краев Станислав Алексеевич, Ведущий технолог отдела технологии наноструктур и приборов
(831) 417−94−96 (+202, +249)
Описание установки
Установка для быстрой температурной обработки микроструктур AcсuThermo AW 410 System это система атмосферной быстрой термической обработки, которая использует высокоинтенсивное видимое излучение для нагрева отдельных пластин в течение коротких периодов времени при точно контролируемых температурах.Результаты
- Влияние термического отжига на транспортные свойства низкобарьерных диодов Мотта Ti/AlGaN/GaN с приповерхностным поляризационно-индуцированным дельта-легированием
- Влияние постростового отжига на соотношение долей sp2- и sp3-связанного углерода в PECVD пленках алмазоподобного углерода
- Варианты формирования вплавных омических контактов к легированным бором слоям, созданным в эпитаксиальных структурах CVD-алмаза
Технические характеристики
- диаметр отжигаемых образцов до 100мм
- диапазон рабочих температур 150ОС-1150 ОС
- максимальное время одного процесса отжига 450 с, минимальное – 10 с
- отжиг осуществляется в среде инертного газа: азота N2, аргона Ar2, гелия He.
- диапазон рабочих температур 150ОС-1150 ОС
- максимальное время одного процесса отжига 450 с, минимальное – 10 с
- отжиг осуществляется в среде инертного газа: азота N2, аргона Ar2, гелия He.