Нанесение тонких пленок

Вакуумная установка резистивного и электронно-лучевого испарения с холловским ионным источником Amod 206

Многокамерная высоковакуумная установка магнетронного распыления ATC 2200-VSPUTTERSYSTEM

Установка атомно-слоевого осаждения Picosun R-200 Advanced

Установка магнетронного распыления на базе ВУП-5

Установка плазмохимического травления и осаждения с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaLab 80

Установки для термического напыления металлов, диэлектриков и органических полупроводников на базе ВУП-5

Установки магнетронного и магнетронно-ионного напыления многослойных структур