Установки для термического напыления металлов, диэлектриков и органических полупроводников на базе ВУП-5

Описание установки

Оборудование предназначено для нанесения одно- и многослойных тонкопленочных покрытий на основе металлов, диэлектриков или органических полупроводников методом термического испарения в вакууме. Вакуумная система представляет собой форвакуумный масляный роторный насос с быстротой действия до 18 м3/мин с предельным остаточным давлением до 5×10-3 Торр, соединённый через буферную ёмкость с водо-охлаждаемым диффузионным паромаслянным насосом. Диффузионный насос, в свою очередь, соединён с рабочей вакуумной камерой, где происходит изготовление тонкопленочных образцов. Остаточное давление, непосредственно в вакуумной камере не менее 8×10-7 Торр и контролируется вакуумметром Мерадат-ВИТ-19, оснащенным термопарной ПМТ-2 и ионизационной ПМИ-2 лампами. Вакуумная камера объёмом 20 литров содержит три стационарных терморезистивных испарителя с индивидуальными заслонками, два из которых могут работать в независимых режимах. Перемещение подложкодержателя между различными испарителями осуществляется поворотной турелью. Скорость осаждения и толщина материала контролируются калиброванным кварцевым толщиномером с точностью до 0.3 Å/с и 1 нм, соответственно. В зависимости от конкретной задачи, подложкодержатель может быть оснащен резистивным нагревателем с вольфрамовой спиралью или элементом Пельтье. Это обеспечивает широкий интервал температур подложки от -30 до +350оС.