Установка атомно-слоевого осаждения Picosun R-200 Advanced

Установка атомно-слоевого осаждения Picosun R-200 Advanced
Установка атомно-слоевого осаждения Picosun R-200 Advanced

Контактное лицо

Хрыкин Олег Игоревич, н.с.

khrykin@ipmras.ru

+7 (831) 417-94-50

Описание установки

Picosun R-200 Advanced позволяет напылять пленки АСО высочайшего качества с превосходной однородностью даже на поверхности сложнейших структур с глухими и сквозными порами, сверхвысоким аспектным отношением, а также на наночастицы. Высокофункциональные и легкозаменяемые источники для жидкостных, газообразных и твердых прекурсоров (реагентов) обеспечивают напыление пленок различного состава без постпроцессных частиц на различные материалы, трехмерные объекты и пластины, имеющие наномасштабные особенности поверхностной геометрии. Оборудование позволяет подключать до 8 источников реагентов, оснащается генератором плазмы, дает возможность обрабатывать одиночные пластины диаметром от 52 до 200 мм.

Услуги

Результаты

Технические характеристики

1.    Реакционная камера изготовлена из нержавеющей стали.

Все газовые линии прекурсоров ведут в реакционную камеру, газ-носитель и пары прекурсоров подаются к подложке через газораспределитель. Поскольку в системе установлены отдельные входные линии для всех линий прекурсоров, в линиях подачи прекурсоров не происходит реакций между прекурсорами. Газораспределитель равномерно направляет прекурсоры на всю поверхность подложки, тем самым обеспечивая однородность осажденного слоя.


2.    Вакуумная система состоит из вакуумного трубопровода, ловушки частиц , двухпозиционного регулировочного клапана и вакуумного насоса. Вакуумная система соединена с реактором с помощью линии откачки смонтированной снизу реакционной камеры.


3.      Система оборудована загрузочным шлюзом и манипулятором, которые управляются в ручном режиме. Загрузочный шлюз имеет аварийный выключатель, оборудован индикатором давления, клапаном сброса давления, запорным клапаном.

Возврат к списку