Осаждение тонких пленок методом атомно-слоевого осаждения на установке Picosun R-200 Advanced
Пластина кремния с нанесенным слоем Al2O3
Однородность по площади на уровне десятых долей нанометра для 200 мм пластины
Осаждение тонких пленок полупроводников и диэлектриков методом атомно-слоевого осаждения на установке Picosun R-200 Advanced
Контактное лицо
Стоимость
15000* руб./час без НДСЗаказчики
- Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского
- ООО «МеГа Эпитех»
- Институт физики микроструктур РАН
- Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики имени А. В. Гапонова-Грехова РАН