Многокамерная высоковакуумная установка магнетронного распыления ATC 2200-VSPUTTERSYSTEM

Описание установки

Производитель - AJAInternational, Inc.

Установка имеет три вакуумных камеры: ростовая камера, загрузочная камера и камера окисления, с возможностью перемещения подложек между ними с помощью двух манипуляторов. В ростовой камере размещены одиннадцать 2” магнетронов с пневматическими затворами. Конфигурация системы магнетронов дает возможность одновременного распыления нескольких мишеней.Держатель подложки оснащен нагревателем, позволяющим нагревать подложки до 400 °C. Для обеспечения однородности формируемых слоев предусмотрена возможность вращения подложкодержателя с регулируемой частотой. Максимальный размер подложки – 100 мм.Установка оснащена шестью четырехканальными DC источниками и четырьмя RF источниками, один из которых имеет четыре канала, которые могут включаться последовательно. Для распыления металлических материалов используется магнетронный разряд постоянного тока, для распыления диэлектрических мишеней – высокочастотный разряд. Скорость роста пленок определяется мощностью разряда, величина которой может регулироваться в диапазоне от 5 до 750 Вт для постоянного и от 5 до 300 Вт для переменного тока. Постоянная мощность разряда обеспечивается автоматической системой стабилизации источников постоянного и переменного тока. В радиочастотных источниках организована автоматическая система согласования. Система подачи газов предусматривает возможность одновременной подачи в ростовую камеру трех газов: аргона, кислорода и азота. В загрузочной камере и камере окисления имеются высокочастотные источники ионов для обработки подложек в аргоновой и кислородной плазме. Вакуум в камерах создается турбомолекулярными насосами и форвакуумными насосами Рутса. Каждая камера оснащена системой автоматического регулирования давления. Управление технологическими процессами осуществляется с помощью компьютерного интерфейса.