Туннельные магниторезистивные контакты CoFeB/MgO/CoFeB с магнетосопротивлением 200 % при комнатной температуре
Рис. 1. а), б) – кривые магнетосопротивления ТМР контактов до и после проведения термического отжига соответственно. в), г) – изображения поперечного среза структур, полученные в просвечивающем электронном микроскопе
Туннельные магнитные контакты (ТМК) CoFeB(001)/MgO(001)/CoFeB(001) на сегодняшний день составляют основу большинства устройств, основанных на эффекте магнетосопротивления, среди которых можно выделить датчики магнитного поля и магниторезистивную память с произвольным доступом. В ИФМ РАН с использованием установки ATC 2200-VSPUTTER SYSTEM (AJA International, Inc.)была отработана технология изготовления многослойных ТМР структур CoFeB/MgO/CoFeB и ТМК на их основе, проявляющих магнетосопротивление величиной 200 % при комнатной температуре. ТМР структуры типа Ta(20)/Pt(10)/Ta(20)/ IrMn(10)/CoFeB(4)/MgO(1.5)/CoFeB(2.5)/Ta(3)/Pt(10) выращивались на подложках Si/SiO2 методом магнетронного распыления при комнатной температуре. Перед проведением ростового процесса подложки подвергались ионной обработке в высокочастотной аргоновой плазме. Остаточное давление в ростовой камере не превышало 3 × 10−7Торр. Туннельный барьер MgO формировался методом высокочастотного магнетронного распыления стехиометрической мишени MgO в атмосфере чистого аргона при рабочем давлении 1.5 × 10−3Торр. Металлические слои распылялись при постоянном токе при рабочем давлении 2 × 10−3Торр.
С использованием отработанной технологии было проведено большое количество экспериментов с ТМК CoFeB/MgO/CoFeB. Обнаружен новый магнитоэлектрический эффект зависимости межслоевого обменного взаимодействия через барьер от приложенного к нему электрического напряжения, получены ТМК субмикронного латерального размера с квазиоднородным и вихревым распределением намагниченности в свободном слое, ТМКCoFeB/MgO/CoFeB с перпендикулярной магнитной анизотропией. Наизготавливаемых в ИФМ РАН ТМК (спин-трансферныхнаноосцилляторов) наблюдался эффект выпрямления и генерации СВЧ сигналов.
Туннельные магнитные контакты (ТМК) CoFeB(001)/MgO(001)/CoFeB(001) на сегодняшний день составляют основу большинства устройств, основанных на эффекте магнетосопротивления, среди которых можно выделить датчики магнитного поля и магниторезистивную память с произвольным доступом. В ИФМ РАН с использованием установки ATC 2200-VSPUTTER SYSTEM (AJA International, Inc.)была отработана технология изготовления многослойных ТМР структур CoFeB/MgO/CoFeB и ТМК на их основе, проявляющих магнетосопротивление величиной 200 % при комнатной температуре. ТМР структуры типа Ta(20)/Pt(10)/Ta(20)/ IrMn(10)/CoFeB(4)/MgO(1.5)/CoFeB(2.5)/Ta(3)/Pt(10) выращивались на подложках Si/SiO2 методом магнетронного распыления при комнатной температуре. Перед проведением ростового процесса подложки подвергались ионной обработке в высокочастотной аргоновой плазме. Остаточное давление в ростовой камере не превышало 3 × 10−7Торр. Туннельный барьер MgO формировался методом высокочастотного магнетронного распыления стехиометрической мишени MgO в атмосфере чистого аргона при рабочем давлении 1.5 × 10−3Торр. Металлические слои распылялись при постоянном токе при рабочем давлении 2 × 10−3Торр.
С использованием отработанной технологии было проведено большое количество экспериментов с ТМК CoFeB/MgO/CoFeB. Обнаружен новый магнитоэлектрический эффект зависимости межслоевого обменного взаимодействия через барьер от приложенного к нему электрического напряжения, получены ТМК субмикронного латерального размера с квазиоднородным и вихревым распределением намагниченности в свободном слое, ТМКCoFeB/MgO/CoFeB с перпендикулярной магнитной анизотропией. Наизготавливаемых в ИФМ РАН ТМК (спин-трансферныхнаноосцилляторов) наблюдался эффект выпрямления и генерации СВЧ сигналов.
Оборудование
Контактное лицо
Гусев Никита Сергеевич, ведущий технолог ИФМ РАН
+7 (831) 417−94−89 (+126)
Публикации
• Пашенькин, И. Ю. Магнитоэлектрический эффект в туннельных магниторезистивных контактах CoFeB/MgO/CoFeB / И. Ю. Пашенькин, М. В. Сапожников, Н. С. Гусев, В. В. Рогов, Д. А. Татарский, А. А. Фраерман, М. Н. Волочаев // Письма в ЖЭТФ. — 2020. — т. 111, вып. 12, С. 815.• Пашенькин, И.Ю.Вихревые туннельные магнитные контакты с композитным свободным слоем / И.Ю. Пашенькин, Е.В.Скороходов, M.В. Сапожников и др. // Журнал технической физики. — 2023. — т. 93, вып. 11. — С. 1616–1621.
• Fedotov, I. A. Creation of SubmicrometerMagnetoresistive Tunnel Junction CoFeB/MgO/CoFeB Using an HSQ/PMMA Resistive Mask / I. A. Fedotov, I. Yu. Pashen’kin, E. V. Skorokhodov, N. S. Gusev // Phys. Met. Metall. — 2024. — Vol. 125, no. 2. — P. 124–128.
• Pashen’kin, I. Yu. Magnetization Reversal of Magnetic Tunnel Junctions by Low-Current Pulses / I. Yu.Pashen’kin, N. S. Gusev, D. A. Tatarskiy, M.V. Sapozhnikov // IEEE Trans. Electron Devices. — 2024. — Vol. 71, no. 4. —P. 2755–2759.
