Лазерный генератор микро-изображений mPG101

Описание установки

Оборудование представляет собой систему прямого лазерного экспонирования, которая позволяет создавать фоторезистивные маски на различных подложках, исключая необходимость использования фотошаблонов. Данная технология широко применяется в научных исследованиях, таких как: создание фотонных кристаллов и волноводов, для работ в области нанофотоники и метаматериалов, прототипирование специализированных интегральных схем, изготовление MEMS/NEMS структур, прототипирование датчиков и биосенсоров, а также изготовление самих литографических масок (фотошаблонов).