Лазерная литография с использованием лазерного генератора микроизображений mPG101

Лазерная литография – это технологический процесс, состоящий из четырёх основных этапов. Нулевой этап производится по необходимости и зависит от степени загрязнения поверхности пластины. Механический мусор удаляется при помощи ультразвуковой обработки в керамической чашке с изопропиловым спиртом или деионизованной водой. Более сложные загрязнения удаляются либо при помощи последовательной очистке в толуоле – ацетоне - изопропиловом спирте с применением ультразвука, либо при помощи последовательного окунания в 30% раствор KOH и дихромата калия. Удаление остатков жидкостей происходит при помощи центрифугирования в специальной кювете. На первом этапе осуществляется нанесение светочувствительного полимерного слоя (фоторезиста), на чистую поверхность пластины методом центрифугирования при оборотах от 500 до 5000 в минуту. После подложка с фоторезистом сушится в духовом шкафу от 1 до 30 минут при температуре от 90^о до 120^о градусов, параметры сушки зависят от производителя и марки фоторезиста.  На втором этапе происходит экспонирование при помощи лазерного генератора, при этом за счёт селективного воздействия сфокусированного лазерного излучения локально изменяются свойства фоторезиста - меняется его растворимость. Третий этап – это проявление в ходе которого происходит удаление либо экспонированных, либо неэкспонированных областей фоторезиста, в зависимости от того какого типа фоторезист использовался: позитивный или негативный, соответственно. Проявление осуществляется методом окунания в слабый раствор КCl (концентрация зависит от типа фоторезиста). Опционально, фоторезист может быть задублен. Далее, сформированный полимерный слой с рисунком может быть использован в качестве маски, как при сухом так и при жидкостным травлением. Или может быть использован как буферный слой при проведении процедуры “Lift-off”.