Обратный эффект спин-холла

При помощи лазерной литографии были изготовлены структуры, в которых экспериментально наблюдался обратный спин-холловский эффект в кремнии n-типа, когда проводимые электроны рассеивались на спин-орбитальном потенциале висмута. Спиновый ток в слое кремния генерировался путем возбуждения прецессии намагниченности в режиме ферроманитного резонанса в тонком слое пермаллоя, осажденном на слой кремния, легированный фосфором и висмутом. На основе угловых зависимостей постоянного напряжения для различных структур Py/n-Si:Bi, ориентированных вдоль кристаллографических осей [011] или [100], удалось разделить вклады планарного эффекта Холла и ОСХЭ обратный спин-холловский эффект.

Контактное лицо

Гусев Никита Сергеевич, ведущий технолог ИФМ РАН

gusevns@ipmras.ru

+7 (831) 417−94−89 (+126)

MainTechnologist

Публикации

• A. A. Ezhevskii , D. V. Guseinov , A. V. Soukhorukov, A. V. Novikov , D. V. Yurasov , and N. S. Gusev, Spin pump induced inverse spin Hall effect observed in Bi-doped n-type Si, PHYSICAL REVIEW B 101, 195202 (2020)

Возврат к списку