Нанесение тонких пленок металлов и диэлектриков с помощью установки резистивного и электронно-лучевого испарения с холловским ионным источником Amod 206

Установка позволяет получать тонкие пленки в вакууме путем физического осаждения наносимого материала из газовой фазы. Преимуществами установки является высокое качество осаждаемых пленок, чистота процесса и возможность получать сложные многослойные покрытия за один процесс. Вращающийся столик подложкодержателя обеспечивает однородность пленки по поверхности. Возможно осаждение металлов и диэлектриков, в том числе материалов с высокой температурой плавления.   

Таким образом услуга является незаменимым инструментом в создании тонких пленок различных материалов, которые необ ходимы для изготовления высокотехнологичных изделий.