Изготовление омических и барьерных контактов

Нанесение тонких пленок
Рис. 1. – Фотография алмаза с нанесенными контактами. Размер алмаза 3×3 мм
Рис. 1. – Фотография алмаза с нанесенными контактами. Размер алмаза 3×3 мм
Рис. 2. – ВАХ омического контакта к алмазу
Рис. 2. – ВАХ омического контакта к алмазу
Источник электронно-лучевого испарения оснащен шестью тиглями для соосаждения разных материалов в одном процессе. Эта возможность позволила получить омические контакты высокого качества к CVD алмазу, GaAs, GaN и другим материалам, где требуется  многослойная контактная система.  Например, для изготовления омического контакта к алмазу с низким контактным сопротивлением возникает необходимость напыления трехслойной системы Ti/Pt/Au с толщинами слоев 20/30/100 нм. Непосредственно перед напылением контактных слоев производилась очистка поверхности алмаза высокоэнергетическим потоком ионов кислорода in situ, вследствие чего удалялись загрязнения с поверхности алмаза и значительно улучшалась адгезия напыляемых контактов. Линейность ВАХ полученного контакта на рис.2 демонстрирует его высокое качество.

Оборудование

Контактное лицо

Архипова Екатерина Александровна, м.н.с. ИФМ РАН

suroveginaka@ipmras.ru

+7 (831) 417−94−96

Публикации

  • Архипова Е.А., Дроздов М.Н., Охапкин А.И., Краев С.А., Хрыкин О.И., Лобаев М.А., Вихарев А.Л., Исаев В.А, Богданов С.А., «Невплавные омические контакты с пониженным сопротивлением к эпитаксиальным слоям алмаза p- и n-типа и их термическая стабильность», ФТП, том 58, вып. 8, 2024.
  • M.A. Lobaev, D.B. Radishev, A.L. Vikharev , A.M. Gorbachev, S.A. Bogdanov, V.A. Isaev, S.A. Kraev, A. I. Okhapkin, E.A. Arkhipova, E.V. Demidov, M.N. Drozdov, «SiV Centers Electroluminescence in Diamond Merged Diode», Physica Status Solidi - Rapid Research Letters, 2022, 17(3), 2200432. 
  • Архипова Е.А., Дроздов М.Н., Дроздов Ю.Н., Краев С.А., Шашкин В.И., Парафин А.Е., Лобаев М.А., Вихарев А.Л., Исаев В.А, Богданов С.А., Использование импульсного лазерного отжига для формирования омических контактов Mo/Ti к алмазу, Письма в ЖТФ, 2020, т.46, в.11, с.34-38.
  • J. E. Butler, A. Vikharev, M. Drozdov, E. Demidov, E. Surovegina, V. Shashkin, H. Tan, L. Meshi et.al, «Nanometric diamond delta doping with boron» Phys. Status Solidi RRL 11, No. 1, 1600329 (2017).

Возврат к списку