Аппаратно-программный комплекс электронной литографии ELPHY PLUS
Контактное лицо
Описание установки
Аппаратно-программный комплекс электронной литографии ELPHY PLUS — это электронно-литографическая приставка для растрового электронно-лучевого микроскопа, позволяющая проводить экспонирование электронным пучком поверхности образцов с нанесенным резистом по виртуальному шаблону(GDSII), заложенному в управляющий компьютер, что позволяет после проявления получать резистивные маски различной топологии с размерами, которые определяются свойствами резистов.Результаты
Технические характеристики
Разрешение литографии < 10 нм (зависит от параметров СЭМ и резиста)
Точность совмещения ~ 2 нм (относительное совмещение на малых полях)
Скорость экспонирования < 50 МГц
Форматы файлов GDSII, DXF, DWG, CIF, BMP
Скорость перемещения столика < 3 мм/c
Диапазон перемещения столика в плоскости 45 мм
Точность совмещения ~ 2 нм (относительное совмещение на малых полях)
Скорость экспонирования < 50 МГц
Форматы файлов GDSII, DXF, DWG, CIF, BMP
Скорость перемещения столика < 3 мм/c
Диапазон перемещения столика в плоскости 45 мм