Электронная литография с использованием аппаратно-программного комплекса электронной литографии ELPHY PLUS

Электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) — это технология, использующая сфокусированный пучок электронов для создания произвольных наноразмерных структур на поверхности, покрытой специальным материалом — электронным резистом.

Этапы

1.     Подготовка подложки: На подложку (кремниевая пластина, стекло и т.д.) наносится тонкий однородный слой электронного резиста.

2.     Экспонирование: Сфокусированный пучок электронов сканирует поверхность по заданному виртуальному шаблону. В местах воздействия пучка происходит локальное изменение химической структуры резиста:
- для позитивного резиста: облученные области становятся растворимыми.
- для негативного резиста: облученные области становятся нерастворимыми.

3.     Проявление: Подложка обрабатывается химическим раствором (проявителем), который удаляет растворимые области резиста, обнажая поверхность подложки в виде заданного рисунка.

4.     Последующие операции: Через полученную маску проводятся процессы:
-Травление: Удаление незащищенных участков подложки.
-Напыление: Осаждение металла или диэлектрика.

5.     Удаление резиста (лифт-офф): Оставшийся резист удаляется, оставляя на подложке готовую наноструктуру.