Комплекс стендов для измерения стационарных, импульсных и высокочастотных электрофизических характеристик полупроводниковых структур и приборов

Комплекс стендов для измерения стационарных, импульсных и высокочастотных электрофизических характеристик полупроводниковых структур и приборов
Комплекс стендов для измерения стационарных, импульсных и высокочастотных электрофизических характеристик полупроводниковых структур и приборов

Контактное лицо

Королев Сергей Александрович, с.н.с. ИФМ РАН

pesh@ipmras.ru

+7(831) 417−94−92 (+255)

Описание установки

Комплекс включает в себя приборы для прецизионного измерения статических, импульсных и высокочастотных характеристик полупроводниковых структур и приборов в двух-, трёх- и четырёхтерминальной конфигурациях. Комплекс позволяет проводить исследования сверхвысокочастотных полупроводниковых структур и приборов в диапазоне частот до 300 ГГц. Комплекс обеспечивает возможность исследования полупроводниковых структур и приборов силовой электроники в диапазоне напряжений до 2000 В и в диапазоне токов до 16 A.  Оборудование комплекса позволяет проводить исследования электрофизических характеристик при повышенных температурах в диапазоне до 350 °C.

Технические характеристики

·         Диапазон рабочих напряжений: до 2000 В.
·         Разрешение по напряжению: от 1 мкВ.
·         Диапазон рабочих токов: до 16 А.
·         Разрешение по току: от 10 aA.
·         Диапазон рабочих частот: до 300 ГГц.
·         Длительность импульса: от 10 нс.
·         Диапазон рабочих температур: до 350 °C.

Возврат к списку