Комплекс стендов для измерения стационарных, импульсных и высокочастотных электрофизических характеристик полупроводниковых структур и приборов
Контактное лицо
Описание установки
Комплекс включает в себя приборы для прецизионного измерения статических, импульсных и высокочастотных характеристик полупроводниковых структур и приборов в двух-, трёх- и четырёхтерминальной конфигурациях. Комплекс позволяет проводить исследования сверхвысокочастотных полупроводниковых структур и приборов в диапазоне частот до 300 ГГц. Комплекс обеспечивает возможность исследования полупроводниковых структур и приборов силовой электроники в диапазоне напряжений до 2000 В и в диапазоне токов до 16 A. Оборудование комплекса позволяет проводить исследования электрофизических характеристик при повышенных температурах в диапазоне до 350 °C.
Технические характеристики
· Диапазон рабочих напряжений: до 2000 В.
· Разрешение по напряжению: от 1 мкВ.
· Диапазон рабочих токов: до 16 А.
· Разрешение по току: от 10 aA.
· Диапазон рабочих частот: до 300 ГГц.
· Длительность импульса: от 10 нс.
· Диапазон рабочих температур: до 350 °C.
· Разрешение по напряжению: от 1 мкВ.
· Диапазон рабочих токов: до 16 А.
· Разрешение по току: от 10 aA.
· Диапазон рабочих частот: до 300 ГГц.
· Длительность импульса: от 10 нс.
· Диапазон рабочих температур: до 350 °C.
