Обработка тонкопленочных структур и подложек с использованием ионно-плазменного комплекса

Травление – один из ключевых этапов постростовой обработки, применяемый для переноса литографического рисунка в функциональные слои структуры. Ионное травление (ion etching) – это процесс, при котором поверхностные слои материалов удаляются в результате физического распыления энергетическими ионами инертных газов. В результате взаимодействия ускоренного иона с атомом распыляемого материала возникает каскад упругих столкновений, результатом которого может стать передача поверхностному атому достаточной энергии и необходимого импульса нужной направленности (наружу из материала) для преодоления сил его связи на поверхности. Ионно-лучевое травление является одним из наиболее прецизионных способов травления, позволяющих сформировать рисунок с минимальными линейными размерами без уходов относительно маски.