Формирование антиотражающего слоя на поверхности кремния
Рис. 1. СЭМ изображение поверхности «черного» кремния
Рис. 2. АСМ изображение поверхности «черного» кремния
Рис. 3. Угловые зависимости коэффициента отражения от образцов кремния: исходная подложка (точка-тире), образец после обработки ионным пучком Ar+ (пунктирная линия), образец после обработки в плазме SF6 + O2 (сплошная линия). а - λ=532 nm; б - λ =633 nm
На поверхности монокристаллического кремния был сформирован антиотражающий слой «черного кремния» путем наномаскирования в процессе травления в плазме гексафторида серы и кислорода. Сильноразвитый рельеф в кремнии формировался за счет осаждения SiO2 и последующего травления фторидными частицами плазмы. Образование слоя «черного кремния» способствовало снижению коэффициента отражения Френеля на 2-3 порядка при углах скольжения больше 40° для разных длин волн излучаемого света.