Определение характеристик многослойных структур NiMo/C, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

Рис. 1. Пример экспериментальной и смоделированной в «Multifitting» кривых зеркального отражения образца NiMo/C с d ≈ 33.5 ангстрем: a — общая кривая, b — первый порядок отражения.

Рис. 2. Кривые зеркального отражения образца NiMo/C с d ≈ 33.5 ангстрем, синтезированного при доле азота = 15 % и отожженного при 250 и 320 °С: a — общая кривая, b — первый порядок отражения. 

Исследованы характеристики многослойной системы NiMo/C, перспективной для зеркал гебелевского типа. Синтезировались структуры методом реактивного магнетронного распыления в аргоне с импульсной подачей азота, процентное содержание которого в камере равнялось 15 % и 30 % от общего давления рабочего газа. Изучалось влияние отжига при максимальных температурах 250 ◦C и 320 °C на отражательные и структурные свойства многослойных структур NiMo/C. По результатам малоугловой рентгеновской рефлектометрии (рис. 1 и 2) на длине волны 0.154 nm были определены структурные параметры NiMo/C (табл. 1). Показано, что величины переходных областей на слоях C и NiMo находятся в пределах 4−7 ангстрем и, в общем, после отжига имеют тенденцию к снижению, либо небольшим флуктуациям. После отжига образцы NiMo/C, синтезированные при доле азота 15 %, имели коэффициенты отражения в первом порядке 78.8 %−76.1 % для периодов 41.5−33.5 ангстрем соответственно. Для структур, синтезированных с 30 % содержанием азота, коэффициент отражения составил 81.4 %−77.4 %.