Комплект оборудования подготовки образцов Fischione для исследования методами просвечивающей электронной микроскопии
Контактное лицо
Описание установки
Система подготовки образцов 1051 TEM Mill – cовременная настольная прецизионная система ионного утонения и полировки, обеспечивающая надежную и высокопроизводительную подготовку образцов для ПЭМ из широкого спектра материалов. Такая система позволяет подготовить для ПЭМ (англ. TEM – Transmission Electron Microscopy) области большой площади, отполированные до степени электронной прозрачности.
Прибор использует бомбардировку ионами аргона (Ar+) для равномерного удаления материала с обеих сторон образца, достигая толщины 50–100 нм, необходимой для высококонтрастного просвечивания электронами. Это позволяет получать качественные изображения на атомном уровне без механических повреждений. Система идеальна для лабораторий, где требуется быстрая и точная подготовка образцов из металлов, полупроводников, керамики и биоматериалов. Утонение происходит в вакууме, с контролем процесса для минимизации артефактов (например, нагрева или ионного имплантирования).
Прибор использует бомбардировку ионами аргона (Ar+) для равномерного удаления материала с обеих сторон образца, достигая толщины 50–100 нм, необходимой для высококонтрастного просвечивания электронами. Это позволяет получать качественные изображения на атомном уровне без механических повреждений. Система идеальна для лабораторий, где требуется быстрая и точная подготовка образцов из металлов, полупроводников, керамики и биоматериалов. Утонение происходит в вакууме, с контролем процесса для минимизации артефактов (например, нагрева или ионного имплантирования).
Технические характеристики
- Габариты и вес: компактный настольный дизайн с размерами примерно 60 × 50 × 40 см и массой около 50 кг, что позволяет размещать прибор на лабораторном столе без специальной установки.
- Вакуумная система: встроенный турбомолекулярный насос (или роторный + турбо) обеспечивает рабочий вакуум 10-5 – 10-6 Торр; время откачки до рабочего режима — 10–15 минут.
- Ионные пушки: две независимые пушки с холодным катодом (cold cathode), напряжение ускорения 1–6 кВ, ток ионов 1–10 мА; диаметр пучка — 1–5 мм для точного утонения.
- Углы наклона пушек: регулируемый угол от 0° до 30° (типично 15°–30° для симметричного утонения), с возможностью независимой настройки для каждой пушки.
- Газовая система: использует аргон (Ar+) как рабочую среду; регулируемый поток газа 0.1–1 сccm (стандартные кубические сантиметры в минуту); баллон или генератор Ar.
- Охлаждение образца: жидкостное охлаждение (водяное или криогенное с жидким азотом, LN2) для поддержания температуры образца ниже 50°C; предотвращает термические повреждения.
- Управление и мониторинг: микропроцессорный контроллер с LCD-дисплеем; предустановленные программы для перфорации, финишного утонения или ручного режима; мониторинг тока, напряжения, времени и вакуума; опциональный датчик толщины (quartz crystal monitor).
- Совместимость с образцами: поддержка стандартных TEM-сеток диаметром 3 мм; утонение материалов толщиной до 100 мкм (металлы, керамика, полупроводники, биоматериалы); время процесса от 6 часов до 20 часов.
- Энергопотребление: 220–240 В, 50/60 Гц, мощность ~500–1000 Вт; низкий уровень шума (<60 дБ) и вибрации.
Ключевые особенности:
- Двойное симметричное утонение: две пушки обеспечивают одновременную обработку с обеих сторон образца, минимизируя конусообразные дефекты и обеспечивая равномерную толщину 50–100 нм.
- Автоматизация процесса: полностью автоматизированные циклы с возможностью остановки по достижению заданной толщины или времени; снижает человеческий фактор и повышает воспроизводимость.
- Минимизация артефактов: низкоэнергетический режим (1–2 кВ для финиша) предотвращает ионное имплантирование, аморфизацию и нагрев; опциональный режим "gentle milling" для чувствительных образцов.
- Безопасность и удобство: автоматическая система аварийного отключения (при потере вакуума или перегреве); встроенная защита от загрязнений (ионная ловушка); простая загрузка/выгрузка образцов без разрыва вакуума.
- Универсальность: подходит для широкого спектра материалов (от твёрдых металлов до мягких биопроб); опциональные аксессуары — держатели для FIB-образцов, секционные ножи или дополнительные датчики.
- Эффективность и экономичность: Высокий выход готовых зон (1–5 на сетку); низкие эксплуатационные затраты (аргон ~0.5–1 л/час); не требует квалифицированного персонала для базового использования.