ЦКП «Физика и технология микро-и наноструктур»
(831) 417 94 91
ckp@ipmras.ru
О ЦКП ИФМ РАН
Услуги
Оборудование
Результаты
УСУ "Фемтоспектр"
Порядок доступа
Научные методики
Пользователи
Документы
Институт физики микроструктур РАН
(831) 417 94 91
ckp@ipmras.ru
Услуги
Главная
Услуги
Нанесение тонких пленок
Наименование услуги (работы)
Стоимость работ в час (без НДС), руб.
Нанесение тонких пленок
Нанесение многослойных покрытий с использованием установок магнетронного и магнетронно-ионного напыления многослойных структур
6500
Нанесение тонких пленок металлов и диэлектриков с помощью установки резистивного и электронно-лучевого испарения с холловским ионным источником Amod 206
10000
Нанесение тонкопленочных и многослойных покрытий с использованием установок магнетронного напыления (ATC 2200-VSPUTTERSYSTEM)
6400
Нанесение тонкопленочных и многослойных покрытий с использованием установок магнетронного напыления на базе ВУП-5
7500
Нанесение тонкопленочных и многослойных структур с использованием установок термического напыления на базе ВУП-5
7500
Осаждение тонких пленок в установке плазмохимического осаждения с источником индуктивно связанной плазмы PlasmaLab 80
От 10000
Осаждение тонких пленок методом атомно-слоевого осаждения на установке Picosun R-200 Advanced
15000*
Травление структур в установке плазмохимического травления и осаждения с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaLab 80
От 10000